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1200℃雙管滑動式單、多溫區CVD系統

產品用途：此款CVD系統是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計，特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐實現快速加熱和冷卻。

所屬分類：

PECVD系統/CVD系統

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產品描述
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產品用途：

此款CVD系統是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計，特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔

電極方面的研究，通過滑動爐實現快速加熱和冷卻。

產品組成：

CVD系統配置：

1.1200度開啟式真空管式爐（可選配單溫區及雙溫區）。

2.滑動系統分為手動、電動滑動，并配有風冷系統。

3.內外雙石英管，采用真空可通氣氛雙法蘭特殊連接。

4.多路氣體流量控制系統（質子流量控制器和浮子流量控制器）

5.真空系統（可選配中真空或高真空）

產品特點：

產品獨特性

1 控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。

2 氣路快速連接法蘭結構采用本公司設計,提高操作便捷性。

3 中真空系統具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統采用高壓強，耐沖擊分子泵，防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長系統使用壽命。

4 (電動)滑動系統采用溫度控制器自動控制爐體移動，等程序完成，爐體按設定的速度滑動，因有滑動限位功能，爐體不會發生碰撞，待樣品露出爐體后，通過風冷系統快速降溫。

5 雙管真空密封法蘭，反應氣體可以在內外管之間發生反應，冷卻氣體可通過內管，從而使內管外壁溫度降低。

系統名稱	1200℃雙管滑動式單/多溫區CVD系統
系統型號	CVD-12II6SH-3Z/G	CVD-12III9SH-3Z/G
最高溫度	1200℃
加熱區長度	610mm	940mm
恒溫區長度	400mm	700mm
溫區	雙溫區	三溫區
石英管管徑	內管：Φ80mm 外管：Φ100mm
額定功率	4.8Kw	7.2Kw
額定電壓	220V	380V（三相）
滑動距離	485mm	650mm
滑動方式	手動滑動/自動滑動(由溫度控制器自動控制移動，當程序完成，爐子按設定的速度滑動）
溫度控制	國產程序控溫系統50段程序控溫；
控制精度	±1℃
爐管最高工作溫度	＜1200℃
雙管法蘭連接	采用雙法蘭雙卡箍連接可擴展多功能，并且分別獨立對內管和外管進行真空和氣體流量控制.密封法蘭與管件連接的地方采用多環密封技術，在密封法蘭與管外壁間形成了密封，在管件外徑誤差較大的情況下密封仍然有效，該密封法蘭的安裝只需在第一次使用設備的時候安裝
氣體控制方式	質量流量計
氣路數量	3路（可根據具體需要選配氣路數量）
流量范圍	0-500sccm(標準毫升/分，可選配）氮氣標定
精度	±1%F.S
響應時間	≤4sec
工作溫度	5-45℃
工作壓力	進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力）
系統連接方式	采用KF快速連接波紋管、高真空手動擋板閥及數顯真空測量儀
規格	高真空
系統真空范圍	1x10-3Pa-1x10-1Pa
真空泵	真空分子泵理論極限真空度 5x10-6Pa抽氣速率1600L/S 額定電壓220V 功率2Kw
爐體外形尺寸	480×770×605mm	410×1100×605mm
系統外形尺寸	530×1440×750mm(不含高真空)
系統總重量	340Kg

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