真空箱式氣氛爐
- 產(chǎn)品描述
-
真空氣氛箱式爐是一種可在真空或可控氣氛環(huán)境下進行高溫熱處理的精密實驗設備。該設備采用高潔凈度的石英腔體，配合精密的溫度控制系統(tǒng)與氣體氛圍調控系統(tǒng)，能夠滿足對材料潔凈度與處理氣氛有嚴苛要求的工藝。其廣泛應用于金屬熱處理、鋰電池材料、半導體及電子材料研發(fā)等領域。
系統(tǒng)參數(shù)：
產(chǎn)品名稱
真空箱式氣氛爐
產(chǎn)品型號
ZKX-300F
最高溫度
1100℃
工作溫度
≤1000℃
爐膛尺寸
Φ316/φ300*550mm
恒溫區(qū)
Φ300*250mm
承重范圍
≤3Kg
爐膽材質
石英
加熱元件
電阻絲
測溫元件
熱電偶K偶
升溫速率
0-1000℃≤10℃/min；1000℃~1100℃≤5℃/min
控溫方式
智能化30段可編程控制（PID獨立控制調節(jié)）
控溫精度
±1℃
真空度
真空度：-0.1MPa（機械泵4L）
水冷制冷量
1.5w
水冷容積
6L
額定電壓
380V
額定功率
12KW
爐體尺寸
956*800*1700mm（深*寬*高）
標準配置
氣路總成一套（含真空壓力表），石英膽一個，隔熱堵一個，鉤子一把，手套一副
選配
如需提升真空度，可更換真空泵或升級為高真空機組
關鍵詞：
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聯(lián)系方式
地址: 天津北辰科技園區(qū)雙川道11號
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